與濕涂技術相比,真空涂技術具有以下優點:
(1)廣泛選擇膜和基板,并且可以控制膜厚度以制備具有各種功能的功能膜。
(2)在真空條件下制備膜,環境清潔,并且膜不易被污染,因此可獲得具有良好致密性,高純度和均勻涂布的膜。
(3)該膜與基材的粘合強度良好,并且膜牢固。
(4)干涂不會產生廢液或環境污染。
真空涂覆技術主要包括真空蒸發鍍,真空濺射鍍,真空離子鍍,真空束沉積,化學氣相沉積等。除了化學氣相沉積外,其他幾種方法還具有以下共同特征:
(1)各種涂層技術需要特定的真空環境以確保在加熱蒸發或濺射期間由成膜材料形成的蒸氣分子的運動,而不會被大氣中的大量氣體分子撞擊,阻擋和干擾。消除空氣中雜質的不利影響。
(2)各種涂覆技術需要蒸發源或靶材,以將氣相沉積的材料轉化為氣體。由于源或靶的不斷改進,成膜材料的選擇范圍大大擴大。無論是金屬,金屬合金,金屬間化合物,陶瓷還是有機物,都可以氣相沉積各種金屬膜和介電膜,并且同時通過氣相沉積不同的材料獲得多層膜。
(3)在與被鍍工件成膜的過程中,可以相對準確地測量和控制蒸發或濺射的成膜材料,從而確保膜厚的均勻性。
(4)每個膜都可以通過調節閥精確地控制涂覆室中殘留氣體的組成和質量分數,從而防止氣相沉積材料的氧化,將氧氣的質量分數降至最低,并填充惰性氣體。等等,這對于濕涂層是不可能的。
(5)由于涂裝設備的不斷改進,可以連續實現涂裝過程,從而大大提高了產品的產量,并且在生產過程中不污染環境。
(6)由于薄膜是在真空條件下形成的,因此薄膜純度高,致密性好,表面光亮,無需加工,因此其機械性能和化學性能均優于薄膜。電鍍膜和化學膜。
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文章來源:@青蝠科技 作者:青蝠科技
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